一种放射源源罐去污工艺
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种放射源源罐去污工艺，涉及放射源源罐处理技术领域，本发明所提供的工艺包括如下步骤：(1)根据源罐外表面污染水平将源罐分成两类，一类是外表面污染水平＞40Bq/cm2的高污染源罐，一类是外表面污染水平≤40Bq/cm2的低污染源罐；(2)高压水清洗去污：对高污染源罐采用封闭式高压水进行冲洗去污，对低污染源罐采用开放式高压水进行冲洗去污；(3)对去污后的源罐局部开孔，所开孔用于夹层内的铅融化后流出；(4)将开孔后的源罐安装于热熔取铅装置上；(5)加热至350℃‑370℃，使得铅熔化并经步骤(3)所开孔脱离源罐本体，铅液进入盛装容器中，按冶金规范对铅液铸锭；(6)测定铅锭的污染水平。
基本信息
专利标题 ：
一种放射源源罐去污工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114360758A
申请号 ：
CN202111663869.0
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
明晓亮曾宇峰李伟任晓军张志勇杨刚
申请人 ：
中核四川环保工程有限责任公司
申请人地址 ：
四川省广元市利州区三堆镇
代理机构 ：
成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘华平
优先权 ：
CN202111663869.0
主分类号 ：
G21F9/30
IPC分类号 ：
G21F9/30 G21F9/34
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F9/00
处理放射性污染材料；及其去污装置
G21F9/28
处理固体的
G21F9/30
处理过程
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G21F 9/30
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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