基于半分析模型的高光谱水深反演方法及系统
实质审查的生效
摘要

本发明涉及基于半分析模型的高光谱水深反演方法及系统,其中,反演方法,包括以下步骤:步骤1、将半分析模型变换为矩阵形式,以便将其估计方法转换成最大似然估计法;步骤2、根据贝叶斯模型,在最大似然估计中加入先验概率,将最大似然估计法变为最大后验概率法;步骤3、在包含了环境噪声和底部类内光谱变异性的反演方法MILE和MILEBI中加入最大后验概率估计方法,即在MILE和MILEBI的损失函数中加入正则化因子,变为新的目标函数;步骤4、使用新的目标函数进行反演,对目标函数采用信赖域反射算法进行迭代优化。相比其他反演方法,本发明使得反演水深的高估现象得到了较好的改善,提高了反演精度。

基本信息
专利标题 :
基于半分析模型的高光谱水深反演方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114329994A
申请号 :
CN202111668328.7
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郭宝峰迟昊宇徐文结
申请人 :
杭州电子科技大学
申请人地址 :
浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道2号大街1158号
代理机构 :
浙江千克知识产权代理有限公司
代理人 :
冷红梅
优先权 :
CN202111668328.7
主分类号 :
G06F30/20
IPC分类号 :
G06F30/20  G06K9/62  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/20
设计优化、验证或模拟
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/20
申请日 : 20211231
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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