场景模型重建方法、装置、电子设备和存储介质
实质审查的生效
摘要

本申请涉及一种场景模型重建方法、装置、电子设备和存储介质。所述方法包括:分别获取待重建场景相应的多帧雷达点云中,多个扫描点对应的点法线,将多帧雷达点云进行拼接,得到全局雷达点云,也就是待重建场景所对应的完整点云。将全局雷达点云拆分为多个子点云,基于多个子点云和扫描点对应的点法线,生成待重建场景相应的场景模型,相对于直接以稠密的三维点云进行模型重建生成的模型,以子点云为单位进行模型重建可提高场景模型的分辨率,保证场景模型所展示的物体细节清晰。

基本信息
专利标题 :
场景模型重建方法、装置、电子设备和存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114549779A
申请号 :
CN202111674998.X
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
林跃宇
申请人 :
奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区粤海街道滨海社区高新南十道63号高新区联合总部大厦12层
代理机构 :
深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙)
代理人 :
郑姣
优先权 :
CN202111674998.X
主分类号 :
G06T17/20
IPC分类号 :
G06T17/20  G06T17/05  G06T5/50  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T17/00
用于计算机制图的3D建模
G06T17/20
线框描述,例如:多边法或镶嵌
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 17/20
申请日 : 20211231
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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