一种含单阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用
公开
摘要
本发明属于过渡金属配合物的制备领域，涉及一种含单阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用。该含单阴离子配体过渡金属配合物的通式为：L(V＝O)X2，其中，L为氮负离子配体，X选自卤素，该配合物的制备方法包括如下步骤：配体原料与三甲基氯硅烷反应，得到含三甲基硅基取代的化合物；将得到的含三甲基硅基取代的化合物和等当量的VOX3反应，得到所述含单阴离子配体过渡金属配合物。本发明的优点如下：不需要使用昂贵且危险的烷基锂试剂，得到含氮负离子配体的过渡金属钒配合物，制备工艺路线简单(两步反应)，反应条件温和，产率高，成本低。
基本信息
专利标题 ：
一种含单阴离子配体过渡金属配合物及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114292292A
申请号 ：
CN202111678155.7
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张树吴一弦张笑宇高正明林金汉
申请人 ：
常州汉韦聚合物有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市天宁区和电路6号
代理机构 ：
北京思创毕升专利事务所
代理人 ：
孙向民
优先权 ：
CN202111678155.7
主分类号 ：
C07F9/00
IPC分类号 ：
C07F9/00 C08F210/16 C08F210/06 C08F210/02 C08F4/68
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物
C07F9/00
含周期表第5或15族元素的化合物
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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