光学器件的温度控制方法及装置、存储介质及电子装置
公开
摘要

本发明实施例提供了一种光学器件的温度控制方法及装置、存储介质及电子装置,该方法包括:获取基频光频率变换的目标温度以及目标温度对应的参考温度,其中,目标温度是目标光学器件在实现基频光频率变换的过程中的工作温度,参考温度小于目标温度;获取目标光学器件的当前温度在多个温度范围中所落入的目标温度范围所对应的目标温度控制流程;通过目标温度控制流程,将目标光学器件的温度从当前温度调整至目标温度。通过本发明,解决了用于进行基频光频率变换的光学器件的温度控制效率较低的问题,进而达到了用于进行基频光频率变换的光学器件的温度控制效率的效果。

基本信息
专利标题 :
光学器件的温度控制方法及装置、存储介质及电子装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114296491A
申请号 :
CN202111682742.3
公开(公告)日 :
2022-04-08
申请日 :
2021-12-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吴杰孙帅哲郑铎陈贤辉施建宏闫大鹏
申请人 :
武汉锐科光纤激光技术股份有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖开发区高新大道999号
代理机构 :
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 :
王晓婷
优先权 :
CN202111682742.3
主分类号 :
G05D23/20
IPC分类号 :
G05D23/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D23/00
温度的控制
G05D23/19
以使用电装置为特征的
G05D23/20
具有随温度变化而产生电或磁性质变化的传感元件
法律状态
2022-04-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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