解决轨道电路分路不良的涂层和喷涂装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种解决轨道电路分路不良的涂层和喷涂装置,属于轨道监测技术领域。该涂层设于轨道的顶部;该涂层具有多层且其由下至上包括一层易于与轨道结合的结合层和至少一层具有防锈功能的防锈层,多层防锈层上下层叠设置,所述结合层和防锈层均为由金属或/和合金颗粒喷涂形成,所述结合层的颗粒较最下层防锈层的颗粒大。在对轨道实施喷砂除锈后,先喷涂上一层与钢轨结合强度高的材料形成结合层以保障涂层与轨道的结合强度,该种材料一般颗粒较粗,颗粒之间会有一定的孔隙率。然后再喷涂上至少一层防锈效果好,颗粒较细的材料形成防锈层,覆盖和填补到结合层的空隙当中,两者形成紧密的复合涂层,以达到解决轨道电路分路不良的目的。

基本信息
专利标题 :
解决轨道电路分路不良的涂层和喷涂装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202120237827.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-01-28
授权号 :
CN216337905U
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
张耀辉曹竣喆
申请人 :
武汉五十四方铁路技术有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市江夏区大桥新区文化大道菩提苑小区105栋1单元2803室
代理机构 :
武汉惠创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
童思明
优先权 :
CN202120237827.X
主分类号 :
C23C4/08
IPC分类号 :
C23C4/08  C23C4/131  C23C4/129  C23C4/134  C23C24/10  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4/00
熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆(堆焊入B23K,例如B23K5/18,B23K9/04
C23C4/04
以镀覆材料为特征的
C23C4/06
金属材料
C23C4/08
仅含金属元素的
法律状态
2022-04-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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