一种电解制备7N高纯铜的设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种电解制备7N高纯铜的设备，包括电解机构，所述电解机构的上端中部设置有供电机构；电解液主体，其设置于所述电解机构的内部处。该电解制备7N高纯铜的设备，该供电机构采用活动放置的方式，将整个供电机构放置在电解机构的上方，并利用其电源主体和凹槽的矩形嵌合，来将电源主体进行固定住，从而将连接电板进行固定，保证其水平稳定，在进行安装时，该连接电板上的放置槽与铜板槽为位置相匹配，来将铜板进行固定住，保证其铜板槽的稳定性，而在放置槽的内侧一端设置有具有弹性的数据触头，使数据触头与铜板进行接触，来进行供电处理，当铜板离开时，其数据触头回弹进行断电处理，来完成整个电解制备的供电作业。
基本信息
专利标题 ：
一种电解制备7N高纯铜的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202120837191.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-04-22
授权号 ：
CN216688345U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
韦建敏张晓蓓张小波
申请人 ：
仁寿华赐半导体材料有限公司
申请人地址 ：
四川省眉山市仁寿县文林工业园区A区
代理机构 ：
成都金英专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
袁英
优先权 ：
CN202120837191.2
主分类号 ：
C25C1/12
IPC分类号 ：
C25C1/12 C25C7/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25C
电解法生产、回收或精炼金属的工艺；其所用的设备
C25C1/00
由溶液电解法电解生产、回收或精炼金属
C25C1/12
铜的
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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