高纯度电解铜
授权
摘要
本发明提供一种高纯度电解铜，其中，除气体成分O、F、S、C、Cl以外的Cu的纯度为99.9999质量％以上，且S的含量为0.1质量ppm以下，在沿厚度方向的截面上通过电子背散射衍射进行了晶体取向测定的结果，具有(101)±10°的面取向的晶体的面积率小于40％。
基本信息
专利标题 ：
高纯度电解铜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110382743A
申请号 ：
CN201880015294.1
公开（公告）日 ：
2019-10-25
申请日 ：
2018-06-01
授权号 ：
CN110382743B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
樽谷圭荣久保田贤治中矢清隆荒井公
申请人 ：
三菱综合材料株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人 ：
刁兴利
优先权 ：
CN201880015294.1
主分类号 ：
C25C1/12
IPC分类号 ：
C25C1/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25C
电解法生产、回收或精炼金属的工艺；其所用的设备
C25C1/00
由溶液电解法电解生产、回收或精炼金属
C25C1/12
铜的
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2019-11-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25C 1/12
申请日 : 20180601
申请日 : 20180601
2019-10-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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