电解铜箔和使用电解铜箔的二次电池
授权
摘要
本公开提供一种电解铜箔，所述电解铜箔由单层或两层或更多层的堆叠组成，其中所述电解铜箔的总有机碳(TOC)含量等于或小于4ppm，且氯(Cl)含量等于或小于10ppm，其中所述电解铜箔的厚度、抗拉强度和伸长率满足以下关系1：关系1：厚度(μm)/(抗拉强度(kgf/mm2)*伸长率(％))≤0.1。
基本信息
专利标题 ：
电解铜箔和使用电解铜箔的二次电池
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110504453A
申请号 ：
CN201910168119.2
公开（公告）日 ：
2019-11-26
申请日 ：
2019-03-06
授权号 ：
CN110504453B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
李先珩朴瑟气赵泰真宋基德
申请人 ：
日进材料股份有限公司
申请人地址 ：
韩国全罗北道
代理机构 ：
北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
杜正国
优先权 ：
CN201910168119.2
主分类号 ：
H01M4/66
IPC分类号 ：
H01M4/66 H01M10/052 C25D1/04
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法律状态
2022-05-24 ：
授权
2019-12-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01M 4/66
申请日 : 20190306
申请日 : 20190306
2019-11-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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