一种氧硫掺杂石墨相氮化碳量子点光降解复合层及应用其的反应...
授权
摘要

本实用新型公开了一种氧硫掺杂石墨相氮化碳量子点光降解复合层及应用其的反应器,属于纳米材料领域。它包括基层、光致变色层、缓冲层和光降解层,所述基层外侧设有光致变色层,光致变色层外侧设有缓冲层,缓冲层外侧设有光降解层,所述光致变色层为复合层的变色功能主要工作层,光降解层增强硬度并提供降解有毒物质的功能,与缓冲层防尘提供抗冲击效果配合,能够使机械能量分散,提高复合层的硬度、和抗冲击性,并且还能对工作环境中的有毒污染物降解,减少对人体的伤害,且还设计有一种应用其的反应器,减少反应副产物对环境的污染,整体设计简单实用。

基本信息
专利标题 :
一种氧硫掺杂石墨相氮化碳量子点光降解复合层及应用其的反应器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121686425.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-07-23
授权号 :
CN216396312U
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
宋春丽蒋炎张荣耀邵筱珏马宏明陈润
申请人 :
常州恒利宝纳米新材料科技有限公司
申请人地址 :
江苏省常州市西太湖科技产业园兰香路8号厂房(1)东侧
代理机构 :
南京联卓知识产权代理有限公司
代理人 :
温中印
优先权 :
CN202121686425.4
主分类号 :
B01J19/02
IPC分类号 :
B01J19/02  B01J19/00  B32B27/00  B32B27/06  B32B9/00  B32B9/04  B32B33/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法,例如,催化作用或胶体化学;其有关设备
B01J19/00
化学的,物理的或物理—化学的一般方法;及其有关设备
B01J19/02
选用由耐化学性材料所构成为特征的设备
法律状态
2022-04-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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