本实用新型涉及半导体专用超声波清洗设备领域，具体为一种半导体专用超声波清洗机。本实用新型，包括清洗机本体和夹持装置，清洗机本体的表面设有夹持装置，所述夹持装置包括若干个滑槽，若干个所述滑槽均匀开设在清洗机本体的表面，所述滑槽的内壁活动连接有夹持框架，所述夹持框架的圆弧面螺纹连接有螺杆，所述螺杆的一端转动连接有活动杆，所述活动杆的圆弧面固定连接有两个第一弹簧。解决现有技术中存在传统的清洗方法是将硅片放置在清洗槽内直接进行清洗，在半导体硅片的清洗过程中，震动会使硅片的表面与清洗槽持续地进行摩擦，导致硅片表面受损，即会影响硅片的性能和使用寿命，也降低了生产的良品率的问题。