一种工业辐照用密封放射源装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种工业辐照用密封放射源装置，一种工业辐照用密封放射源装置，包括外包壳和设置于外包壳内的内包壳，所述内包壳中装有源芯，所述源芯的两端分别与封头一和封头二密封连接；所述内包壳内设有若干个直径不等或相等的填装孔道，所述填装孔道用于填充放射性物质；所述填装孔道内壁设置有可调节限位板，所述可调节限位板用于调节填装孔道的内径；其可实现精准控制不同放射源活度、剂量的精确度和分布均匀性的目的，为实际使用的便利性及功能性提供了更多选择的可能性，从而满足一物多用的使用价值。
基本信息
专利标题 ：
一种工业辐照用密封放射源装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122024484.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-25
授权号 ：
CN216562482U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
杨大才温忠明曾卫东龙礼国田迪杨博程徐渊孙涛王杰熊光齐
申请人 ：
成都中核高通同位素股份有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市高新区名都路166号1栋1单元28层
代理机构 ：
成都睿道专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
周自维
优先权 ：
CN202122024484.1
主分类号 ：
G21F5/015
IPC分类号 ：
G21F5/015 G21F5/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21F
G21FX射线，γ射线、微粒射线或粒子轰击的防护；处理放射性污染材料；及其去污染装置
G21F5/00
可运输的或轻便的防护容器
G21F5/015
用于存储放射性源，例如用于照射单元的源载体；放射性同位素容器
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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