一种制造离合器片用抛丸清洗联合机
授权
摘要
本实用新型公开了一种制造离合器片用抛丸清洗联合机,包括机架、滑动设置有在机架上的传送带以及均匀固定在传送带底部的挂钩,所述机架的一侧设置有打磨室,所述打磨室的一侧设置有清洗室,所述清洗室的一侧设置有烘干室,所述传送带依次穿过打磨室、清洗室和烘干室,所述打磨室内部两侧面对称设置有若干抛丸器,所述清洗室的一侧连接有收集池,所述收集池内部设置有水泵,所述水泵的输出端连接有导管,所述清洗室内部对称设置有竖管,两个所述导管的一端均与导管连通,两个所述竖管的相对侧面均匀设置有若干雾化喷头,本实用新型结构合理,解决产品打磨后需要对产品进行单独的清洁,减少了工作量,提高工作效率。
基本信息
专利标题 :
一种制造离合器片用抛丸清洗联合机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122072557.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-08-30
授权号 :
CN216228833U
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
戴俊平
申请人 :
杭州安凯机械有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市富阳区东洲街道东洲工业功能区五号路19号
代理机构 :
杭州惟越知识产权代理有限公司
代理人 :
何爱
优先权 :
CN202122072557.4
主分类号 :
B24C1/08
IPC分类号 :
B24C1/08 B24C3/14 B24C9/00
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24C
磨料或微粒材料的喷射
B24C1/00
为产生特殊效果的喷射磨料的方法;与这些方法有关的所使用的辅助装置
B24C1/08
用于表面抛光,如使用含液体的磨料
法律状态
2022-04-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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