一种防复制镭射防伪膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种防复制镭射防伪膜，包括括依次设置基材层、图像层、印刷层、纳米涂层、UV保护层及背胶层。该防复制镭射防伪膜，通过在纳米涂层设置特定图案以形成印刷层，即印刷层包含特定图案，且印刷层使用与图像层化学组成近似的油墨进行印刷特定图案，可实现图像层与印刷层对图案进行无误差套印，起到一定的防止复制的作用。
基本信息
专利标题 ：
一种防复制镭射防伪膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122134287.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-06
授权号 ：
CN216273883U
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
黄斗兴李盛林曹慧芬
申请人 ：
上海宏盾防伪材料有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区蔡伦路150号
代理机构 ：
上海港慧专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
卞小婷
优先权 ：
CN202122134287.5
主分类号 ：
C09J7/24
IPC分类号 ：
C09J7/24 C09J7/25 C09J7/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09J
黏合剂；一般非机械方面的黏合方法；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
C09J7/00
薄膜或薄片状的粘合剂
C09J7/20
以它们的载体为特征
C09J7/22
塑料，镀金属塑料
C09J7/24
基于只由碳－碳不饱和键反应得到的高分子化合物
法律状态
2022-04-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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