一种并行电缆沟结构
授权
摘要
本实用新型提供了一种并行电缆沟结构，并行电缆沟结构为一整体结构，内部由隔墙(12)分隔形成主电缆沟(1)和辅助电缆沟(2)，主电缆沟(1)和辅助电缆沟(2)的上方分别盖设主盖板(3)和副盖板(4)，主电缆沟(1)和辅助电缆沟(2)的内壁上均架设托架(5)。本实用新型对于需要采用2个独立通道的电缆或光缆，采用整体结构的并行双通道电缆沟，可以节省布置空间、节省投资。
基本信息
专利标题 ：
一种并行电缆沟结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122184830.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-09
授权号 ：
CN216215780U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
师晓岩宋春丽冯玉始危贤光黄晓敢李金泉
申请人 ：
中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市潮王路22号
代理机构 ：
浙江杭州金通专利事务所有限公司
代理人 ：
刘晓春
优先权 ：
CN202122184830.2
主分类号 ：
H02G9/02
IPC分类号 ：
H02G9/02 G02B6/50
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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