一种氮化炉工件支架
授权
摘要
本实用新型公开了一种氮化炉工件支架，涉及氮化炉相关设备技术领域，包括顶环，所述顶环的下方依次设有一号限位环、二号限位环及底环，所述顶环之间设有一号限位杆，所述一号限位环与所述二号限位环之间设有二号限位杆，所述二号限位环与所述底环之间设有支撑杆，所述一号限位环的上端设有一号放置板，所述二号限位环的上端设有二号放置板，氮化炉在对工件处理时，代替传统的将工件直接放置进炉胆内部的处理放置，提升炉胆内部的空间利用率，对工件的加热更加均匀，保证在渗氮的过程中渗氮均匀，效果更好。
基本信息
专利标题 ：
一种氮化炉工件支架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122626570.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-29
授权号 ：
CN216514069U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
章国平
申请人 ：
辽宁抚工实业有限公司
申请人地址 ：
辽宁省抚顺市望花区汪良桥西7#-2
代理机构 ：
沈阳友和欣知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨群
优先权 ：
CN202122626570.X
主分类号 ：
C23C8/24
IPC分类号 ：
C23C8/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/08
仅用一种元素的
C23C8/24
渗氮
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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