回收装置和清洗系统
授权
摘要

本实用新型涉及半导体清洗设备技术领域,提供了一种回收装置和清洗系统,回收装置包括:多个相互套设环形回收组件,环形回收组件包括壳体,壳体包括工作腔;第一导流组件,设置于工作腔内,第一导流组件包括第一通道;第二导流组件,设置于工作腔内,第二导流组件包括第二通道;其中,第一通道和第二通道为环形通道,第一通道和第二通道相互独立设置,第一通道用于对工作腔内的废气进行回收,第二通道用于对工作腔内的废液进行回收。通过设置多个相互套设环形回收组件,即设置多重气液回收装置,能够根据不同的工序使用不同的气液回收通道,实现了不同工序的废液、废气的分开收集及排放,实现不同成分的气液回收,提高了回收气液的利用率。

基本信息
专利标题 :
回收装置和清洗系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122649281.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-01
授权号 :
CN216174695U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
左国军谈丽文成旭申斌
申请人 :
常州捷佳创精密机械有限公司
申请人地址 :
江苏省常州市新北区机电工业园宝塔山路9号
代理机构 :
北京友联知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
尚志峰
优先权 :
CN202122649281.1
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02  B08B3/08  B08B3/10  B08B13/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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