一种基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪
授权
摘要
本实用新型提供一种基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪，涉及旋转电解抛光仪技术领域。所述基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪包括电解抛光仪主体，还包括：支撑腿，所述电解抛光仪主体下表面位于四角的位置均固定连接有支撑腿；具有转向功能的移动组件，所述支撑腿内嵌合有具有转向功能的移动组件，所述具有转向功能的移动组件用于对电解抛光仪主体进行位置移动；限位组件，所述限位组件插接于支撑腿内，且与所述具有转向功能的移动组件相连接。在电解抛光仪主体底部设置嵌合于支撑腿内的具有转向功能的移动组件，从而能够驱动电解抛光仪主体进行位置移动，进而可以减少人力的消耗，提升工作进度的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122670215.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-03
授权号 ：
CN216192863U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
肖旋
申请人 ：
沈阳正恒科技有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市沈河区文化路80-25号(1-1-2)
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122670215.2
主分类号 ：
C25F3/16
IPC分类号 ：
C25F3/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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