一种足部三维轮廓及压力分布构建装置
授权
摘要
本实用新型提出一种足部三维轮廓及压力分布构建装置，包括多个上部相机、多个下部相机、柔性感压层、玻璃基板、装置壳体和计算机，所述装置壳体上端设置有玻璃基板，柔性感压层设置于玻璃基板上，计算机设置于装置壳体内部底侧，所述上部相机通过上部相机支撑臂环绕设置于玻璃基板边缘上方，所述下部相机设置于装置壳体内部底侧，且通过下部相机支撑臂环绕设置于玻璃基板边缘下方，所述柔性感压层包括上下双层结构的柔性材料层和阵列标记点材料层，阵列标记点材料层夹设于柔性材料层之间，可同时得到足部三维轮廓模型和压力分布模型。
基本信息
专利标题 ：
一种足部三维轮廓及压力分布构建装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122676591.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-02
授权号 ：
CN216694856U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
刘永红陈清霞胡亚凡吴凡
申请人 ：
泉州湖南大学工业设计与机器智能创新研究院
申请人地址 ：
福建省泉州市鲤城区经济技术开发区崇宏街463号智能产业园办公楼
代理机构 ：
泉州君典专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
胡希琰
优先权 ：
CN202122676591.2
主分类号 ：
G01B11/24
IPC分类号 ：
G01B11/24 G01L1/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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