本实用新型公开了一种化工药物研磨装置，其技术要点是：包括底板，所述底板的表面上安装有壳体，所述壳体上安装有第一伺服电机，所述第一伺服电机的输出端上安装有转盘，所述壳体安装有支撑杆，所述支撑杆上安装有滑轨，所述滑轨上滑动安装有滑座，所述滑座与所述转盘上均安装有转轴，两个所述转轴上均套装有连杆，所述滑座上安装有研磨柱组件；所述底板的上表面上安装有匚型板，所述匚型板上安装有移动机构，所述移动机构上安装有转动架，通过第一伺服电机带动转盘转动，通过两个转轴均与连杆相连接，从而便于带动滑座在滑轨上往复移动，从而带动研磨柱组件进行研磨运动，大大提高了装置的稳定性。