一种隧洞全年导流方式的下游围堰布置结构
授权
摘要

本实用新型属于水利水电工程技术领域,具体地涉及一种隧洞全年导流方式的下游围堰布置结构。本实用新型至少包括导流洞,还包括下游围堰、防冲堤、导墙和消力机构;消力机构设置在导流洞的出口处;导墙设置在导流洞出口靠河侧;下游围堰设置在导墙外侧,且下游围堰的轴线与导流洞出口的轴线呈角度设置;防冲堤置于下游围堰下游,其一端与导墙连接,且其与下游围堰上的迎水侧护坡相接。本实用新型避免了产生回流冲刷破坏围堰堰脚,有效保护了下游围堰堰脚不被导流洞出口水流冲刷。本实用新型下游围堰的布置不受防冲距离(30m‑100m)的限制,可有效减小导流洞长度。本实用新型在导流洞出口受限条件下,下游围堰布置不占压基坑,方便基坑的施工。

基本信息
专利标题 :
一种隧洞全年导流方式的下游围堰布置结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122712183.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-08
授权号 :
CN216275784U
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
康文军贺扬靳俊杰张永红董占辉郭富权刘建华
申请人 :
中国水利水电建设工程咨询西北有限公司
申请人地址 :
陕西省西安市雁塔区电子工业园区丈八东路18号国家电力公司西北勘测设计院内
代理机构 :
西安吉盛专利代理有限责任公司
代理人 :
薛妍
优先权 :
CN202122712183.8
主分类号 :
E02D19/04
IPC分类号 :
E02D19/04  E02B8/06  E02B9/04  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D19/00
保持地下基础地段或其他面积的干燥
E02D19/02
露天水的节制
E02D19/04
用围堰
法律状态
2022-04-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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