一种高纯溅射靶材加工辅助装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种高纯溅射靶材加工辅助装置，属于溅射靶材加工技术领域，包括底板和转动安装在底板上表面的转动柱，所述转动柱的上表面安装有放置盘，所述放置盘的外侧安装有安装筒，所述安装筒的外侧呈环形安装有若干个固定板，所述固定板上滑动贯穿安装有插销，所述底板的上表面呈环形开设有与插销相配合使用的插槽；本实用新型中，通过设置转动柱和放置盘，利用底板对转动柱进行支撑，配合支撑盘在转动柱上转动的作用，方便工作人员通过驱动放置盘对溅射靶材进行转动观察，再利用插销与插槽相配合的作用，对转动到一定位置的溅射靶材进行固定，进而方便工作人员对具有缺陷的一侧进行细致的观察。
基本信息
专利标题 ：
一种高纯溅射靶材加工辅助装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122833905.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-18
授权号 ：
CN216265580U
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
韦建敏张晓蓓赵兴文刘正斌张小波
申请人 ：
仁寿华赐半导体材料有限公司
申请人地址 ：
四川省眉山市仁寿县文林工业园区A区
代理机构 ：
成都华复知识产权代理有限公司
代理人 ：
李俊
优先权 ：
CN202122833905.5
主分类号 ：
B25B11/00
IPC分类号 ：
B25B11/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B25
手动工具；轻便机动工具；手动器械的手柄；车间设备；机械手
B25B
不包含在其他类目中的用于紧固、连接、拆卸或夹持的工具或台式设备
B25B11/00
不包含在B25B1/00至B25B9/00各组中的工件夹持装置或定位装置，例如，磁性工件夹持装置、真空夹持装置
法律状态
2022-04-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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