一种真空平台
授权
摘要
本申请公开了一种真空平台，涉及真空平台技术领域，包括真空底座和真空平台，所述真空平台设置在真空底座的上端，真空平台的表面开设有间距相等的真空孔，而真空底座的内侧则设置有挡块，所述真空底座内部通过挡块间隔分区，通过在真空平台上设计分区的挡块，且控制挡块数量，通过挡块将真空底座结构分区(阻止气流进入)，从而达到不同尺寸基板长度尺寸作业，以及通过拆卸挡块可以有效清洁内部污染物，防止真空孔堵住，通过真空平台表面设有真空孔(根据产品基板unit尺寸需求设计分布真空孔数量以及孔径尺寸)，其真空孔形状可以为外圈型(中间区域为实心，周围为槽，其可以大幅较小真空孔的气流，减小真空过大导致超薄基板吸附凹陷)。
基本信息
专利标题 ：
一种真空平台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123048499.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-07
授权号 ：
CN216442406U
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
何正鸿张超钟磊
申请人 ：
甬矽电子（宁波）股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市中意宁波生态园兴舜路22号
代理机构 ：
浙江杭州金通专利事务所有限公司
代理人 ：
邓世凤
优先权 ：
CN202123048499.8
主分类号 ：
B25B11/00
IPC分类号 ：
B25B11/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B25
手动工具；轻便机动工具；手动器械的手柄；车间设备；机械手
B25B
不包含在其他类目中的用于紧固、连接、拆卸或夹持的工具或台式设备
B25B11/00
不包含在B25B1/00至B25B9/00各组中的工件夹持装置或定位装置，例如，磁性工件夹持装置、真空夹持装置
法律状态
2022-05-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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