一种同轴光检测装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种同轴光检测装置,其包括分光单元和图像获取单元,分光单元的反光侧设置有检测工位,分光单元的透光侧转动连接有反射单元;对检测工位上的工件进行检测时,分光单元的反光侧将光正射于工件上,随后光携带了工件的表面信息并被反射穿透分光单元的透光侧,到达反射单元并被反射至图像获取单元;其中,反射单元的安装位置,相对于现有技术中同轴光检测结构,其高度更低,适用于生产设备对元件的高度有限制的场景;且反射单元和图像获取单元均能相对于分光单元转动,即图像获取单元能分布于分光单元的各个角度,通过反射单元及时获取工件的信息,使得本申请能够适用更多的安装场景,即本同轴光检测装置具有布置灵活性高的特点。

基本信息
专利标题 :
一种同轴光检测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123098418.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-10
授权号 :
CN216747453U
授权日 :
2022-06-14
发明人 :
钟超
申请人 :
广东奥普特科技股份有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市长安镇锦厦社区河南工业区锦升路8号
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
俱玉云
优先权 :
CN202123098418.5
主分类号 :
G01N21/88
IPC分类号 :
G01N21/88  G01N21/01  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-06-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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