一种高压自动除垢装置
授权
摘要

本实用新型涉及水处理技术领域,尤其涉及一种高压自动除垢装置。包括箱体、设置于所述箱体内的电极板、设置于所述箱体上的门板和设置于所述箱体内的高压喷头;所述箱体底部设置有排污口和进水口,顶部设置有出水口和出气口;所述高压喷头设置在箱体背部;采用高压喷头将电极板上的水垢冲下,保证了可以自动将水垢清理出来;用滤板设置在进水口上部,保证了可以将水中的杂质进行过滤,增加电解效果;用阴极板安装在箱体内,阳极板安装在门板内,保证清理时不会受到阳极板的影响,方便将阴极板上的水垢去除。

基本信息
专利标题 :
一种高压自动除垢装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123107688.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-13
授权号 :
CN216737903U
授权日 :
2022-06-14
发明人 :
郭玉宾张文涛
申请人 :
河北哈伦环境科技有限公司
申请人地址 :
河北省石家庄市高新区天山大街方大科技园2号楼305
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202123107688.8
主分类号 :
C02F9/06
IPC分类号 :
C02F9/06  C02F1/461  B08B3/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/04
至少有一个化学处理步骤
C02F9/06
电化学处理
法律状态
2022-06-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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