一种陶瓷膜元件的烧制设备
授权
摘要

本实用新型涉及陶瓷膜生产的技术领域,特别是涉及一种陶瓷膜元件的烧制设备,其提高装置加工效率,增加操作便捷性,提高装置功能多样性;包括安装梁、支撑腿、定位滑轨、定位滑槽、移动座、支撑梁、夹具、直齿条、驱动机构和连接机构,支撑腿配合对称安装在安装梁底端左右两侧,定位滑轨安装在安装梁底端,定位滑槽安装在移动座槽孔内部,定位滑槽与定位滑轨配合滑动连接,支撑梁通过连接机构安装在移动座底端,夹具配合安装在连接机构上,直齿条安装在移动座顶端连接槽内部,驱动机构安装在安装梁顶端,驱动机构与直齿条配合连接。

基本信息
专利标题 :
一种陶瓷膜元件的烧制设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123115288.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-13
授权号 :
CN216282768U
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
陆超
申请人 :
上海科琅膜科技有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区南汇工业园区陶桥路138号7幢
代理机构 :
沧州市宏科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
喻慧玲
优先权 :
CN202123115288.1
主分类号 :
F27B17/00
IPC分类号 :
F27B17/00  F27D3/00  B01D63/00  B01D67/00  B01D71/02  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B17/00
不包含在F27B 1/00至F27B 15/00中任一组的炉
法律状态
2022-04-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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