半导体设备用具有清洗液定量结构的精密洗净处理设备
授权
摘要
本实用新型涉及半导体技术领域，公开了半导体设备用具有清洗液定量结构的精密洗净处理设备，包括主箱体，主箱体的外表面上设置有定量移动机构，定量移动机构的外表面上设置有固定机构，当需要改变精密洗净处理设备中的清洗液定量容量时，移动把手杆使其在第一跑道型环槽的内部进行移动，此时把手杆带动竖杆、L型杆、凸块和档盖进行移动，此时档盖沿着凹槽进行移动，在档盖移至合适位置时，停止移动把手杆，此时可通过进料槽向主箱体的内部注入清洗液，在抵至进料槽处时，将进料槽关闭，此时清洗液不会再通过进料槽进入主箱体的内部。
基本信息
专利标题 ：
半导体设备用具有清洗液定量结构的精密洗净处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123199542.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-20
授权号 ：
CN216597520U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
熊志红
申请人 ：
广州仕上科技有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市增城区宁西街香山大道2号(增城经济技术开发区核心区内)
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123199542.0
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 B08B3/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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