一种基于任意光谱的积分球结构及校准设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种基于任意光谱的积分球结构及校准设备，用于对成像装置进行成像校准，其包括：球体，所述球体内具有空腔，且所述空腔的内壁设有反射层；用于供待测屏体发出的光进入的入射口，其开设于所述球体的一侧；用于向所述成像装置提供光源的出光口，其开设于所述球体的另一侧，所述出光口通过所述空腔与所述入射口连通；所述入射口放置待测屏体或者与所述待测屏体光谱一致的样本屏，所述出光口生成与所述待测屏体或者所述样本屏光谱对应的均匀光源。本实用新型涉及的一种基于任意光谱的积分球结构及校准设备，可便携的对成像装置进行成像校准，同时校准光源光谱与待测屏体或者样本屏光谱一致，可以提高校准准确性。
基本信息
专利标题 ：
一种基于任意光谱的积分球结构及校准设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123229664.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-21
授权号 ：
CN216560316U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
冯晓帆洪志坤钟凡刘璐宁欧昌东郑增强
申请人 ：
武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区流芳园南路22号
代理机构 ：
武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
余浩
优先权 ：
CN202123229664.X
主分类号 ：
G01N21/88
IPC分类号 ：
G01N21/88 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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