一种涂层制备装置及其制备的涂层
授权
摘要
本实用新型公开了一种涂层制备装置及其制备的涂层，属于喷涂技术领域，装置包括高压气源，高压气源分别经送粉管路、加热管路连接至喷管；所述装置还包括与喷管并列设置的涂层处理部件，涂层处理部件用于压延或抛光涂层表面。本实用新型通过涂层处理部件对新鲜原生涂层表面进行压延或抛光处理，以此提升涂层表面平整度及光洁度，使涂层表面能够满足工业生产应用的平整度及光洁度要求。
基本信息
专利标题 ：
一种涂层制备装置及其制备的涂层
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123251738.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-22
授权号 ：
CN216727904U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
任长春肖建忠王生红鲍守珍张婧宗冰
申请人 ：
亚洲硅业（青海）股份有限公司;青海亚洲硅业半导体有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请人地址 ：
青海省西宁市经济技术开发区金硅路1号
代理机构 ：
成都华风专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
张巨箭
优先权 ：
CN202123251738.X
主分类号 ：
B05B16/20
IPC分类号 ：
B05B16/20 B05B7/16 B23K26/352
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05B
喷射装置；雾化装置；喷嘴
B05B16/00
喷漆室
B05B16/20
与其他操作相结合的喷射装置，如烘干；实现喷涂操作的结合的装置
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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