一种CVD反应炉炉体冷却结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种CVD反应炉炉体冷却结构,包括炉壳冷却装置和密封冷却装置，炉壳冷却装置包括炉体，炉体设置有进出水接头和冷却腔体，进出水接头以及冷却腔体形成炉壳冷却通道，冷却介质沿炉壳冷却通道流通对炉体外壳进行冷却，密封冷却装置包括密封组件，密封组件设置有进出管组件和槽体组件，进出管组件以及槽体组件形成法兰冷却通道，冷却介质沿密封冷却通道流通对密封组件进行冷却，本实用新型将炉体设计为分段且每段为分层结构，第一半炉壳和第二半炉壳的第一通道和第二通道，冷却介质沿第一通道和第二通道流通，带走热场和石英管传递过来的热量，降低炉体外壳表面的温度，保证炉体外壳表面的温升在标准允许的范围内。
基本信息
专利标题 ：
一种CVD反应炉炉体冷却结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123263907.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-23
授权号 ：
CN216738521U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
林佳继龙占勇罗迎春李洪
申请人 ：
深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区坑梓街道吉康路1号
代理机构 ：
杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
董世博
优先权 ：
CN202123263907.1
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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