一种双轴平面研磨机
授权
摘要
本实用新型公开了一种双轴平面研磨机，包括平面研磨主座机构，所述平面研磨主座机构顶端两侧均安装有平磨架机构，且平磨架机构顶部设有平磨机主体机构，所述平磨架机构前侧外部连接有废屑集中机构，且废屑集中机构后端连接有平面研磨主座机构，所述平面研磨主座机构顶部侧边安装有操控面板。该双轴平面研磨机能够方便的进行连续多级研磨，适用于中小型磁芯产品的单纯平面粗磨、精磨一次性加工，亦可将较大型产品的分两次平面研磨，方便集中处理研磨废屑，有效提高平面研磨的效率。
基本信息
专利标题 ：
一种双轴平面研磨机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123413572.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
CN216657347U
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
李海军王士庆姚拥军
申请人 ：
江苏鑫瑞杰智能装备有限公司
申请人地址 ：
江苏省盐城市阜宁县阜城中小企业园E区6号（A）
代理机构 ：
合肥左心专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王伟
优先权 ：
CN202123413572.7
主分类号 ：
B24B7/10
IPC分类号 ：
B24B7/10 B24B7/07 B24B55/12 B24B37/04 B24B37/34
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B7/00
适用于磨削工件平面的机床或装置，包括抛光平面玻璃表面；及其附件
B24B7/10
专用机床或装置（
法律状态
2022-06-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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