两工位湿式抛光自动机
授权
摘要
本实用新型公开了一种两工位湿式抛光自动机，包括机架、设置于机架的驱动电机以及设置于驱动电机输出轴的抛光轮，位于所述抛光轮的前方形成一操作区，位于所述操作区的一侧设有放置平台，所述机架上设有驱动放置平台的升降组件，所述放置平台沿背向机架方向延伸形成一长条形，所述放置平台上分布设置有若干凸出于放置面且沿放置平台长度方向往复滚动的辊轴，所述放置平台上设有用于限制辊轴上产品运动的锁定构件。本实用新型具有以下优点和效果：本实用新型能使工作人员对工件实现便捷拿取，以此来保证工作人员的身体健康、提升产品的加工效率。
基本信息
专利标题 ：
两工位湿式抛光自动机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123456145.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
CN216542642U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
余斌林建通李聪聪
申请人 ：
温州市山福工贸有限公司
申请人地址 ：
浙江省温州市鹿城区山福镇沙头工业区纬二路
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123456145.7
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B27/00 B24B41/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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