双工位干式超声波清洗装置
授权
摘要
1.本外观设计产品的名称：双工位干式超声波清洗装置。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于清洗显示行业及半导体行业的产品表面的微小颗粒。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
基本信息
专利标题 ：
双工位干式超声波清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202130673124.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-14
授权号 ：
CN307280410S
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
范二波林玲殷嘉鸿
申请人 ：
深圳商巨智能设备股份有限公司;合肥市商巨智能装备有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区桃源街道平山大园工业区9栋1楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202130673124.7
主分类号 ：
15-05
IPC分类号 ：
15-05
法律状态
2022-04-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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