基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像装置及方法
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摘要

本发明涉及光学技术领域,具体公开了一种基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像方法和装置,包括激光器、准直扩束系统、空间光调制器、4f缩束系统、二向色镜、显微物镜、微球、直写基底、三维可控精密位移台、照明光源、照明模块及相机等,所述的激光器出射光经过扩束准直后入射到加载有相位全息图的空间光调制器上面,调制后的光斑经过4f缩束系统入射到显微物镜,在显微物镜焦面形成聚焦光斑阵列同时捕获多个微球,利用微球强聚焦特性配合相位全息图变化,在直写基底上面进行任意图案的高通量超分辨激光直写;同时,微球结合显微物镜可对超分辨激光直写结构进行实时成像,图像由相机采集,实现基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像。

基本信息
专利标题 :
基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114077168A
申请号 :
CN202210009224.3
公开(公告)日 :
2022-02-22
申请日 :
2022-01-06
授权号 :
CN114077168B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
刘锡匡翠方马程鹏朱大钊丁晨良曹春杨顺华王洪庆罗昊温积森张智敏魏震
申请人 :
之江实验室
申请人地址 :
浙江省杭州市余杭区中泰街道之江实验室南湖总部
代理机构 :
杭州浙科专利事务所(普通合伙)
代理人 :
孙孟辉
优先权 :
CN202210009224.3
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G21K1/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 :
授权
2022-03-11 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20220106
2022-02-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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