基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统。该系统使用一片包括m×m个镜元的微透镜阵列产生m×m束并行光束，结合紫外飞秒激光器、四光束分束器、DMD、合束器、平板光束位移元件、透镜、物镜搭建而成的光路在物镜焦平面上形成2m×2m个焦点点阵分布，将基于微透镜阵列和DMD的激光直写通量提高到原来的4倍，大幅提高直写速度，且每个焦点可由DMD独立调节光强，从而结合直写算法实现任意图形的并行超分辨激光直写。本发明可应用于微透镜阵列、衍射光学元件、光刻掩模板等的快速加工制造。
基本信息
专利标题 ：
基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326322A
申请号 ：
CN202111528094.6
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
匡翠方魏震杨顺华蒋登斌丁晨良刘旭徐良朱大钊张凌民
申请人 ：
之江实验室;浙江大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
邱启旺
优先权 ：
CN202111528094.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B27/10 G02B3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20211214
申请日 : 20211214
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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