一种相纸用遮光聚丙烯基膜及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种相纸用遮光聚丙烯基膜及其制备方法,其特征是:该相纸用遮光聚丙烯基膜由顺次的表层聚丙烯组合物层、芯层聚丙烯组合物层和表层聚丙烯组合物层复合组成;表层聚丙烯组合物由聚丙烯树脂、抗静电剂和分散剂经混合熔融挤出制得;芯层聚丙烯组合物由聚丙烯树脂、填料、偶联剂、抗氧剂、炭黑和分散剂经混合熔融挤出制得;将芯层聚丙烯组合物与表层聚丙烯组合物分别投入三层共挤流延挤出设备的主、辅机中,经熔融挤出,冷却定型等,即制得相纸用遮光聚丙烯基膜。本发明相纸用遮光聚丙烯基膜具有遮光性能好、水汽透过率低、表面光泽度优异、表面能高、抗静电性能优良等特点,适用于喷墨打印、喷绘胶片等领域。
基本信息
专利标题 :
一种相纸用遮光聚丙烯基膜及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114381067A
申请号 :
CN202210011667.6
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2022-01-06
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
廖春赵贵红孙鹏周元友
申请人 :
四川东方绝缘材料股份有限公司;四川东材科技集团股份有限公司
申请人地址 :
四川省绵阳市游仙区三星路188号
代理机构 :
成都蓉信三星专利事务所(普通合伙)
代理人 :
吴锦
优先权 :
CN202210011667.6
主分类号 :
C08L23/12
IPC分类号 :
C08L23/12 C08K3/22 C08K5/544 C08K5/134 C08K5/526 C08K3/04 C08K5/20 C08J5/18 B32B27/32 B32B27/18 B32B27/20 B32B27/06 B29D7/01
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L23/00
只有1个碳-碳双键的不饱和脂族烃的均聚物或共聚物的组合物,此种聚合物的衍生物的组合物
C08L23/02
未用化学后处理改性的
C08L23/10
丙烯的均聚物或共聚物
C08L23/12
聚丙烯
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08L 23/12
申请日 : 20220106
申请日 : 20220106
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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