电磁干扰屏蔽罩缝隙设计方法、装置、设备及存储介质
实质审查的生效
摘要

本申请提供电磁干扰屏蔽罩缝隙设计方法、装置、设备及存储介质,电磁干扰屏蔽罩缝隙设计方法包括:创建屏蔽罩对应的仿真模型,对所述仿真模型进行电磁场特性仿真,得到初始电磁辐射参数;根据所述初始电磁辐射参数调整所述仿真模型,对调整后的仿真模型进行电磁场特性仿真,得到目标电磁辐射参数;若所述目标电磁辐射参数与预设标准参数匹配,则按照调整后的仿真模型输出屏蔽罩的缝隙尺寸信息。设计仿真进行屏蔽罩优化,减少了打样成本亏损以及工时亏损,大大降低了设计成本。

基本信息
专利标题 :
电磁干扰屏蔽罩缝隙设计方法、装置、设备及存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114491983A
申请号 :
CN202210015428.8
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-07
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
余灿强陈欣周武君
申请人 :
深圳TCL新技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区西丽街道中山园路1001号国际E城D4栋9楼
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
张莉
优先权 :
CN202210015428.8
主分类号 :
G06F30/20
IPC分类号 :
G06F30/20  G06F111/10  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/20
设计优化、验证或模拟
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/20
申请日 : 20220107
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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