一种吸收体及其制作方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供了一种吸收体及其制作方法,其中该方法包括:在衬底或/和传感器上旋涂第一层光刻胶;对第一层光刻胶进行二次曝光和显影得到预设的凹凸加强结构;对预设的凹凸加强结构上沉积吸收体材料得到沉积完成的凹凸加强结构;在沉积完成的凹凸加强结构上旋涂第二层光刻胶;以第二层光刻胶为掩膜对吸收体图形进行刻蚀得到吸收体。本发明通过利用光刻技术制作吸收体,用于探测特定的信号时,可以迅速将热量传输到温度传感器上,并且由于吸收体帽表面带有凹凸加强结构花纹,可以在保证吸收体的较高的机械强度的同时,使吸收体具有较小的热容,较高的信号探测能力。此外,吸收体与衬底使用支撑脚进行弱连接也保证了数据采集的时间。

基本信息
专利标题 :
一种吸收体及其制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114384576A
申请号 :
CN202210032219.4
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2022-01-12
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王国乐梁亚杰崔伟
申请人 :
清华大学
申请人地址 :
北京市海淀区清华园
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
张丽娜
优先权 :
CN202210032219.4
主分类号 :
G01T1/02
IPC分类号 :
G01T1/02  G01T7/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/00
X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量
G01T1/02
剂量计
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01T 1/02
申请日 : 20220112
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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