再生PECVD设备或DRY ETCH设备腔体中的构件的方...
实质审查的生效
摘要
本公开涉及再生PECVD设备或DRY ETCH设备腔体中的构件的方法，该方法包括以下连续步骤：(a)对所述构件的表面进行喷砂处理；(b)用浓度为40‑100g/L的无机酸溶液清洗所述构件的表面；(c)检查所述构件的表面；(d)对所述构件的表面进行激光定点清洗；(e)对所述构件的表面进行超声波清洗；(f)对所述构件的表面进行研磨处理；(g)对所述构件的表面进行喷砂处理；(h)使用干冰对所述构件的表面进行清洗；(i)用酸性或碱性溶液对所述构件的表面进行化学刻蚀；(j)对所述构件的表面进行超声波清洗；(k)对所述构件的表面进行高压清洗；以及(l)干燥所述构件的表面。
基本信息
专利标题 ：
再生PECVD设备或DRY ETCH设备腔体中的构件的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114535186A
申请号 ：
CN202210034753.9
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-01-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘晓刚黄来国刘超李仁杰蔡广云朱勇
申请人 ：
合肥微睿光电科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站区九顶山路以东、珠城路以南
代理机构 ：
安徽知问律师事务所
代理人 ：
王亚军
优先权 ：
CN202210034753.9
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B3/08 B08B3/12 B08B7/00 B24B1/00 B24C1/08 C23G1/02 C23F1/16 C23F1/32 C23F1/08 C23G3/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B08B 3/02
申请日 : 20220112
申请日 : 20220112
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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