能提高沉积率的等离子喷涂YSZ陶瓷基封严涂层制备方法
实质审查的生效
摘要
一种能提高沉积率的等离子喷涂YSZ陶瓷基封严涂层制备方法。其包括含钇铝石榴石的YSZ陶瓷基原材料制备、含钇铝石榴石的YSZ陶瓷基团聚粉末制备、等离子喷涂金属粘结层、等离子喷涂YSZ陶瓷面层等步骤。本发明优点：工艺流程简单，操作容易，只需要在制备YSZ陶瓷基团聚粉末的过程中加入钇铝石榴石黏结相就可以实现沉积率的显著提高。不需要大幅度改动YSZ陶瓷基封严涂层的等离子喷涂工艺，在显著提高沉积率的同时，适当提高了涂层的热循环性能。
基本信息
专利标题 ：
能提高沉积率的等离子喷涂YSZ陶瓷基封严涂层制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114351080A
申请号 ：
CN202210037677.7
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2022-01-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
程涛涛王志平王仕成
申请人 ：
中国民航大学
申请人地址 ：
天津市东丽区津北公路2898号
代理机构 ：
天津才智专利商标代理有限公司
代理人 ：
庞学欣
优先权 ：
CN202210037677.7
主分类号 ：
C23C4/134
IPC分类号 ：
C23C4/134 C23C4/073 C23C4/11
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4/00
熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆（堆焊入B23K，例如B23K5/18，B23K9/04
C23C4/04
以镀覆材料为特征的
C23C4/134
等离子喷涂
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 4/134
申请日 : 20220113
申请日 : 20220113
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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