一种用于快速制冷的杜瓦冷头及红外探测器杜瓦组件
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种用于快速制冷的杜瓦冷头及红外探测器杜瓦组件,所述用于快速制冷的杜瓦冷头包括冷指气缸、冷台、陶瓷基板、温度传感器、探测器芯片组、冷屏和低温滤光片,所述陶瓷基板的底面安装在冷台上、顶面进行薄膜电路金属化处理,在陶瓷基板上开设有与温度传感器形状和大小相适应的安装通孔一以及与探测器芯片组形状和大小相适应的安装通孔二,所述安装通孔二与安装通孔一连通,在陶瓷基板的非键合侧切割出适应冷屏安装的缺口。该杜瓦冷头可实现快速制冷,并能够降低探测器芯片组的热应力,采用该杜瓦冷头的红外探测器杜瓦组件的制冷和工作响应时间短,热损耗小,且使用寿命长。
基本信息
专利标题 :
一种用于快速制冷的杜瓦冷头及红外探测器杜瓦组件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114353953A
申请号 :
CN202210038939.1
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2022-01-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
金鑫熊雄毛剑宏
申请人 :
浙江珏芯微电子有限公司
申请人地址 :
浙江省丽水市莲都区南明山街道石牛路268号1幢B座307室
代理机构 :
济南联合竟成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
伦文知
优先权 :
CN202210038939.1
主分类号 :
G01J5/02
IPC分类号 :
G01J5/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J5/00
辐射高温测定法
G01J5/02
零部件
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 5/02
申请日 : 20220113
申请日 : 20220113
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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