掩模组件、用其制造显示装置的设备和方法以及显示装置
实质审查的生效
摘要
提供了一种显示装置、掩模组件以及用于制造显示装置的设备和方法。掩模组件包括：掩模框架；至少两个掩模片，至少两个掩模片安装在掩模框架上，至少两个掩模片中的每个包括多个开口；以及至少两个薄屏蔽板，至少两个薄屏蔽板安装在掩模框架上，使得至少两个薄屏蔽板彼此间隔开以及屏蔽至少两个掩模片中的每个的多个开口的一部分，其中，至少两个掩模片和至少两个薄屏蔽板中的一个包括位于彼此间隔开的至少两个薄屏蔽板之间的屏蔽部，屏蔽部选择性地阻挡多个开口中的至少部分，从而形成具有除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。
基本信息
专利标题 ：
掩模组件、用其制造显示装置的设备和方法以及显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114369793A
申请号 ：
CN202210048872.X
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2017-08-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
洪宰敏权韩郁金柾勳俞慈京李守珍
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王达佐
优先权 ：
CN202210048872.X
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 H01L27/32 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20170804
申请日 : 20170804
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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