掩模组件、显示装置的制造装置及显示装置的制造方法
公开
摘要
本发明公开一种掩模组件、显示装置的制造装置及显示装置的制造方法。本发明包括：掩模框架，配备有开口区域；第一掩模片，布置为遮蔽所述开口区域的第一开口区域，并配备有至少一个第一开口部；第二掩模片，布置为遮蔽所述开口区域的第二开口区域，并配备有至少一个第二开口部，其中，所述第一开口部与所述第二开口部的大小彼此不同。
基本信息
专利标题 ：
掩模组件、显示装置的制造装置及显示装置的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114592167A
申请号 ：
CN202111412444.2
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2021-11-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李京俊李和重
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道龙仁市
代理机构 ：
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 ：
习瑞恒
优先权 ：
CN202111412444.2
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 H01L27/32 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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