掩模装置的制造装置
授权
摘要

本发明的目的之一在于提供能够以高精度对准掩模并将掩模固定在框架上的掩模装置的制造方法和制造装置。掩模装置的制造装置包括:工作台,其包括用于保持框架的框架保持工作台和具有多个升降销的对准工作台;保持部,其用于保持与工作台相对地配置的基准板;掩模保持单元,其配置在工作台与基准板之间,用于保持掩模;和用于透过基准板对工作台的方向进行拍摄的摄像机,掩模保持单元在框架侧的面保持掩模,掩模保持单元能够通过多个升降销的动作在对准工作台上升降,多个升降销包括能够与掩模保持单元接触的多个第一升降销,摄像机对形成在掩模上的第一基准标记和形成在基准板上的第二基准标记进行拍摄。

基本信息
专利标题 :
掩模装置的制造装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110777327A
申请号 :
CN201910634499.4
公开(公告)日 :
2020-02-11
申请日 :
2019-07-15
授权号 :
CN110777327B
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
成谷元嗣
申请人 :
株式会社日本显示器
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 :
邸万杰
优先权 :
CN201910634499.4
主分类号 :
C23C14/04
IPC分类号 :
C23C14/04  C23C14/24  C23C14/12  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物
法律状态
2022-04-19 :
授权
2020-03-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20190715
2020-02-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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