光学检测方案生成方法、存储介质、电子设备及系统
实质审查的生效
摘要

本申请涉及一种光学检测方案生成方法、存储介质、电子设备及系统,该方法包括:根据选择或输入的工艺制程段,得到待检显示面板所需的检测器件;根据选择或输入的正视大相机的类型以及对应的镜头类型、待检显示面板的尺寸以及分辨率、第一mapping值、机台限高,得到正视大相机的数量、摆放方式以及工作距离;第一mapping值为待检显示面板与选择或输入的正视大相机分辨率之间的映射关系;分别在预设的显示区域显示待检显示面板所需的检测器件、正视大相机的类型以及对应的镜头类型,以及正视大相机的数量、摆放方式以及工作距离,以生成光学检测方案。本申请可以解决相关技术中光学检测方案通过人工输出,需要耗费人力成本和大量的时间,效率低的问题。

基本信息
专利标题 :
光学检测方案生成方法、存储介质、电子设备及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114485398A
申请号 :
CN202210050097.1
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
黄文博洪志坤郑增强欧昌东
申请人 :
武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖新技术开发区流芳园南路22号
代理机构 :
武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
邱云雷
优先权 :
CN202210050097.1
主分类号 :
G01B11/00
IPC分类号 :
G01B11/00  G01B11/02  G01N21/01  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/00
申请日 : 20220117
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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