一种低铁损高磁感取向硅钢薄带及其制备方法
公开
摘要
本发明涉及一种低铁损高磁感取向硅钢薄带及其制备方法，低铁损高磁感取向硅钢薄带的化学成分按质量百分比为：C：0.003‑0.008；Si：3.0～4.0；Al：0.5～1.0；Mn：0.06～0.12；Cu：0.2～0.4；N：0.01‑0.02；S：0.004～0.02；Nb：0.001～0.01；其余为Fe和不可避免的杂质；其制备工艺为：冶炼，将冶炼的钢水铸轧成薄带，然后将薄带热轧成热轧板；再将热轧板进行常化处理，再将常化处理后的热轧板冷轧成取向硅钢薄带；最后将取向硅钢薄带进行再结晶退火和高温退火，即得低铁损高磁感取向硅钢薄带，低铁损高磁感取向硅钢薄带为上述工艺制造的薄带，该工艺简单和流程短；得到的低铁损高磁感取向硅钢薄带不仅规格薄，且铁损低和磁感高，解决了现有低铁损高磁感取向硅钢薄带的制备工艺复杂、低铁损与高磁感难以兼顾的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种低铁损高磁感取向硅钢薄带及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114561597A
申请号 ：
CN202210050753.8
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-01-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
程朝阳刘静钟柏林贾涓宋新莉倪正轩
申请人 ：
武汉科技大学
申请人地址 ：
湖北省武汉市青山区和平大道947号
代理机构 ：
武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
朱才永
优先权 ：
CN202210050753.8
主分类号 ：
C22C38/16
IPC分类号 ：
C22C38/16 C22C38/12 C22C38/06 C22C38/04 C22C38/02 C21D8/02 C21D1/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C22
冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理
C22C
合金
C22C38/00
铁基合金，例如合金钢
C22C38/16
含铜的
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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