用于制造硅钟表部件的方法
实质审查的生效
摘要

根据本发明的方法包括以下步骤:a)提供衬底(1),该衬底(1)包括第一硅层(2)、第二硅层(3)以及在第一硅层(2)和第二硅层(3)之间的中间氧化硅层(4);b)蚀刻第一硅层(2)以在其中形成钟表部件;c)从衬底(1)释放至少由经蚀刻的第一硅层(2)的全部或部分形成的、并包括钟表部件的晶圆;d)对钟表部件进行热氧化然后脱氧;e)在钟表部件上通过热氧化或沉积形成氧化硅层;f)从晶圆(8)中分离钟表部件。

基本信息
专利标题 :
用于制造硅钟表部件的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114460826A
申请号 :
CN202210052591.1
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2019-03-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
西尔万·让纳雷
申请人 :
百达翡丽日内瓦公司
申请人地址 :
瑞士日内瓦
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
赵赫
优先权 :
CN202210052591.1
主分类号 :
G04B17/22
IPC分类号 :
G04B17/22  G04B17/06  G04D3/00  C30B33/10  C30B33/02  C30B33/00  C30B29/06  C23C14/10  C23C16/40  C01B33/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G04
测时学
G04B
机械驱动的钟或表;一般钟或表的机械零部件;应用太阳、月亮或星辰位置计时的计时器
G04B17/00
稳定频率的机构
G04B17/20
稳定频率机构的补偿
G04B17/22
温度变化影响的补偿
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G04B 17/22
申请日 : 20190319
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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