激光照射控制系统、激光照射控制方法、设备及介质
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种激光照射控制系统、激光照射控制方法、设备及介质。所述系统包括:现场可编程门阵列FPGA控制器模块、垂直腔面发射激光器模块和驱动模块;其中,FPGA控制器模块通过IO端口与驱动模块连接,用于控制驱动模块生成指定波长的驱动程序;驱动模块通过数据接口与垂直腔面发射激光器模块中各个阵元的激光器连接,用于基于驱动程序控制各个激光器在照射面上形成不同波长的光波。本发明通过FPGA控制器模块控制垂直腔面发射激光器模块中各个阵元的激光器产生不同波长的光波,来满足特定激光照射场景下的不同照射需求。
基本信息
专利标题 :
激光照射控制系统、激光照射控制方法、设备及介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114488892A
申请号 :
CN202210056373.5
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吉彦平王文思马一鸣陈旺鑫王明晨王晓雯刘文涛赵燕冉魏韵璋赵伯言
申请人 :
北京工业大学
申请人地址 :
北京市朝阳区平乐园100号
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
王宇杨
优先权 :
CN202210056373.5
主分类号 :
G05B19/042
IPC分类号 :
G05B19/042 H01S5/183
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05B
一般的控制或调节系统;这种系统的功能单元;用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B19/00
程序控制系统
G05B19/02
电的
G05B19/04
除数字控制外的程序控制,即顺序控制器或逻辑控制器
G05B19/042
使用数字处理装置
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G05B 19/042
申请日 : 20220118
申请日 : 20220118
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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