激光照射设备、激光照射方法和用于制造半导体装置的方法
公开
摘要
一种激光照射设备，其包括：激光光源，其构造成发射线性偏振的脉冲激光；第一半波片，其可旋转地设于所述脉冲激光的光路中；第一偏振分束器，其构造成使来自第一半波片的所述脉冲激光分支为第一脉冲光和第二脉冲光；第二偏振分束器，其构造成将第一脉冲光与第二脉冲光进行组合，第二脉冲光通过利用第一脉冲光与第二脉冲光之间的光路长度差而相对于第一脉冲光延迟；以及第一波片，其可旋转地设于组合脉冲激光的光路中，所述组合脉冲激光通过在第二偏振分束器处将第一脉冲光与第二脉冲光进行组合而产生。
基本信息
专利标题 ：
激光照射设备、激光照射方法和用于制造半导体装置的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114374138A
申请号 ：
CN202111199213.8
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-10-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
今村博亮
申请人 ：
株式会社日本制钢所
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
马立荣
优先权 ：
CN202111199213.8
主分类号 ：
H01S3/08
IPC分类号 ：
H01S3/08 H01S3/10 H01L21/268
法律状态
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
