半导体激光照射装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种半导体激光照射装置,包括光学整形系统,光学扩束系统,激光反射镜,其特点是:该装置还包括半导体激光光源,激光光源上面依次设置光学整形系统,光学扩束系统,激光反射镜;整形光路系统把条状的半导体激光转变为矩形、圆形,然后通过可变扩束光路系统及反射镜发射到照射目标;半导体激光为530nm-650nm的工作激光。本实用新型由于采用了半导体激光器作为照射光源,从而降低了造价,缩小了体积,减轻了重量,使用方便。

基本信息
专利标题 :
半导体激光照射装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720067907.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-03-16
授权号 :
CN201006196Y
授权日 :
2008-01-16
发明人 :
周国诚夏常文
申请人 :
上海得邦得力激光技术有限公司
申请人地址 :
201206上海市浦东新区新金桥路1299号1号楼6楼
代理机构 :
上海申汇专利代理有限公司
代理人 :
吴宝根
优先权 :
CN200720067907.5
主分类号 :
A61N5/067
IPC分类号 :
A61N5/067  
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学;卫生学
A61N
电疗;磁疗;放射疗;超声波疗
A61N5/00
放射疗
A61N5/06
利用光
A61N5/067
利用激光
法律状态
2012-05-23 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101247910462
IPC(主分类) : A61N 5/067
专利号 : ZL2007200679075
申请日 : 20070316
授权公告日 : 20080116
终止日期 : 20110316
2008-01-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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